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[ml] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第181回定例研究会のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；中野武雄（成蹊大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第181回定例研究会
「成膜プロセスの進展による高性能材料の創出」

ＡＩ技術が急速に発展する現在の社会において、常に求められているのは、さらなる新材料・新機能である。新しい機能性材料の創製は従来の材料設計学理の革新あるいは新規材料作製プロセスの導入によってもたらすものである。スパッタリング成膜は半導体やエレクトロニクス産業をはじめ、多くの分野で広く使われている代表的な薄膜作製手法であるが、技術革新が加速する現在、従来の枠組みを超えた新規機能性材料の創製方法の創出が重要な課題となっている。本研究会では、伝統的な成膜プロセスの改良による材料機能の飛躍的向上および新材料の創製、さらに機械学習を活用した新しい機能性材料開発の最先端研究成果を紹介する。

開催日時： 2025年3月13日（木）13:30～16:50
開催場所：機械振興会館地下3階 B3-6会議室（東京都港区芝公園3-5-8）

講演プログラム： ※講演時間40分（質疑応答5分間含む）
13:00～13:05　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会部会長　中野武雄（成蹊大学）
13:05～13:45「機械学習とロボットを活用した薄膜新材料探索」
　西尾和記（東京科学大学）
13:45～14:25「硫黄プラズマを用いた硫化物薄膜の作製」
　鈴木一誓（東北大学）
14:25～15:05「プラズマ成膜プロセスによる高キャリア移動度フレキシブル透明導電膜の実現」
　野本淳一（産業技術総合研究所）
15:05～15:25　休　憩
15:25～16:05「スパッタリング成膜におけるボンバード効果と薄膜の機能」
　賈　軍軍（早稲田大学）
16:05～16:45「ＩＧＺＯのスパッタ薄膜と新規物性」
　井手啓介（東京科学大学）
16:45～16:50　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会副部会長　清水徹英（東京都立大学）

参加費（資料代・消費税を含む）
SP部会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
教育機関、公的機関に属する方：12,000円
学生： 5,000円
一般：28,000円

参加定員： 35名
申込方法：ホームページよりお申込みください。https://www.jvss.jp/
申込締切： 2025年2月27日（木）
問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
　　　　　 E-mail: office＠jvss.jp

＜本メールは日本表面真空学会より会員の皆様宛に配信しております。＞