メーリングリスト

[ml_073] 日本表面真空学会 SP部会第160回定例研究会・ISSP2019プレセッション(10/16)のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；後藤康仁（京都大学，日本表面真空学会SP部会長）

日本表面真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
第160回定例研究会・ISSP2019プレセッション
テーマ：「Science-based Sputtering and Plasma Processes for the IoT Era」

　スパッタリングを中心としたプラズマプロセスは，古くから様々なデバイス・
製品に応用され，現在も産業にとって欠かすことのできないキーテクノロジーと
なっています．International Symposium on Sputtering and Plasma Processes
（ISSP）は，第1回目の開催となった1991年以降，基礎研究，材料開発から，
製品化技術に至る幅広い情報を交換・議論する場を提供して参りました．隔年
開催で15回目を迎えるISSP2019を来年6月に開催する予定としております．
これに先立ち，SP部会の定例研究会としてISSP2019プレセッションを開催致
します．「Science-based Sputtering and Plasma Processes for the IoT Era」
というメイントピックのもと，様々な産業分野・各種デバイス開発の第一線で
ご活躍の研究者・技術者の方々にご講演を頂きます．
皆様のご参加を心よりお待ち申し上げております．

日　時： 2018年10月16日（火）13:00～16:50（受付12:30～）

場　所：機械振興会館　地下2階　B2-1号室
　　　　（東京都港区芝公園3-5-8）
　　　　 http://www.jspmi.or.jp/about/access.html

講演プログラム：
13:00～13:05　開会の挨拶
　ISSP2019実行委員会委員長（東北大学）後藤哲也

13:00～14:10　（名古屋大学）豊田浩孝
「酸化物ターゲットを用いたマグネトロンプラズマ中における高エネルギー粒子の診断」

13:40～14:25　（東京工業大学）松浦賢太朗
「RF-マグネトロンスパッタリング法で成膜した二次元半導体MoS2薄膜のMISFETチャネル応用」

14:25～15:05　（芝浦工業大学）弓野健太郎
「金属触媒を用いた多結晶Ge薄膜の低温形成」

15:05～15:25　休憩

15:25～16:05　（東海大学）岩森　暁
「水晶微小天秤法並びに色素インジケータを用いた活性酸素種の検知技術」

16:05～16:45　（東北大学）上田恭介
「RFマグネトロンスパッタリング法による元素添加生体内溶解性非晶質リン酸カルシウム膜の作製とその評価」

16:45～16:50　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会部会長（京都大学）後藤康仁

参加費（当日受付にてお支払いください．）：
○日本表面真空学会会員
　・SP部会員                                                 無　料
　・個人正会員                                               3,000円
　・法人正会員，維持会員，賛助会員に属する方   3,000円
○教育機関，公的機関に属する方                        3,000円
○学　生                                                        1,000円
○一　般                                                         5,000円

申込方法：ホームページよりお申し込みください．

　　　　　 https://www.jvss.jp/

申込締切： 2018年10月12日（金）

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会事務局
　　　　　 TEL:03-6801-6264　　FAX: 03-3812-2897
　　　　　 E-mail: office@jvss.jp