公益社団法人 日本表面真空学会



IVC-22「Short Course」

主催

日本表面真空学会、日本学術会議

後援
THE INTERNATIONAL UNION FOR VACUUM SCIENCE, TECHNIQUE AND APPLICATIONS(IUVSTA)

開催日

2022年9月10日(金)、11(日)、16日(金)

締切日

2022年08月31日

会場

札幌コンベンションセンター(〒003-0006 札幌市白石区東札幌6条1丁⽬1-1)
およびオンライン開催(Zoomを使用したライブ配信を予定しています。)

プログラム

世界的に著名な真空・表面科学分野の研究者を講師にお招きし、真空工学、プラズマ工学、薄膜、表面科学をテーマとしたショートコースを全7コース開催します。

※言語は英語です。


●2日間コース:9月10日(土)9:00-18:00、9月11日(日)9:00-18:00
「Vacuum Gas Dynamics: Theory, Experiments and Applications」
講  師
 Felix Sharipov (Federal University of Parana)
 Irina Graur (Aix-Marseille University)
 Oleg B. Malyshev (Daresbury Laboratory)
 Roberto Kersevan (CERN)
講義概要
 真空工学で重要な希薄気体流れを扱うための基礎知識やシミュレーション手法、実験方法や実験データ処理に関して学べます。気体力学に関する予備知識を前提とせず、基礎的な項目から解説します。
講義内容詳細
 https://ivc22.org/pdf/GasDynamics.pdf


●1日コース:9月11日(日)9:00-16:00
「Scanning Probe Microscopy」
講  師
 Franz Giessibl (University of Regensburg)
講義概要
 STMとAFMの基礎から高空間分解能AFMに関わる周波数変調モードとqPlusセンサーについて学べます。高空間分解能測定や原子操作などの重要な実験についても解説します。
講義内容詳細
 https://ivc22.org/pdf/SPMIVC22.pdf
 ※本講座のオンライン受講者で講義用スライドの印刷物を希望される方は、IVC-22運営事務局までお問い合わせください。


●1日コース:9月11日(日)10:00-18:00
「Reactive Magnetron Sputter Deposition」
講  師
 Diederik Depla (Ghent University)
講義概要
 スパッタリング法を基礎から解説し、さらに反応性マグネトロンスパッタリングの基本的なプロセスやプロセス設計に役立つ知識を解説します。
講義内容詳細
 https://ivc22.org/pdf/ReactiveSputtering.pdf


●1日コース:9月11日(日)14:00-18:00
「Introduction to High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)」
講  師
 Daniel Lundin (Linköping University)
講義概要
 近年、注目が集まっているHiPIMSに関して、基本的なプロセスや膜厚、膜物性を制御するためのプロセスパラメータ設計に関して解説します。
講義内容詳細
 https://ivc22.org/pdf/HiPIMS.pdf


●半日コース:9月16日(金)10:00-13:00
「Plasma Processing; From Fundamentals to Atomic Layer Processes」
講  師
 Satoshi Hamaguchi (Osaka University)
講義概要
 半導体デバイス利用される材料のプラズマ処理に関する基本的な知識を解説します。さらに原子層堆積(ALD)や原子層エッチング(ALE)などの原子層プロセスの研究の最前線を紹介します。
講義内容詳細
 https://ivc22.org/pdf/Plasma.pdf


●半日コース:9月16日(金)14:00-17:00
「Fundamentals of Sputter Deposition; Control of Micro- and Nanostructure」
講  師
 Ivan Petrov (University of Illinois)
講義概要
 スパッタリングの成膜条件による薄膜成長過程や薄膜の物性への影響を解説します。また、スパッタリングにおける膜質制御の手法についても解説します。
講義内容詳細
 https://ivc22.org/pdf/SputterDepositionshort.pdf


●半日コース:9月16日(金)14:00-17:00
「Properties of Small Molecules: Bridging Surface Science and Vacuum Technology」
講  師
 Katsuyuki Fukutani (University of Tokyo)
講義概要
 真空技術・表面科学にとって非常に重要な、表面と分子相互作用の基本概念と、水素、酸素、水などの小分子の表面でのふるまいを解説します。
講義内容詳細
 https://ivc22.org/pdf/SmallMolecules.pdf


テキスト
 ・講義用スライドのパスワード付きPDFファイルをE-メール送付します。(ただし「Scanning Probe Microscopy」は除く。)
 ・対面での受講者には講義用スライドを1ページあたり2スライドで両面カラー印刷したものを現地で配布します。

禁止事項
 オンラインで受講されるにあたっては下記(1)~(7)、対面で受講されるにあたっては下記(5)~(7)の行為を禁止します。
 (1)講義動画等を受講者以外が視聴すること
 (2)オンライン受講用のID、パスワード、視聴用URLを第三者に知らせること
 (3)講義動画等をパソコンやその他の記録メディアに保存すること
 (4)講義動画等をインターネット上のネットワーク配信サイト等へ配布すること
 (5)テキストのPDFファイルまたはその一部を再配布すること
 (6)他の受講者又は講師に迷惑・不利益を与える行為
 (7)その他著作権法等の法令に反する行為

費用

2日間コース(9月10日、11日 9:00-18:00)
「Vacuum Gas Dynamics: Theory, Experiments and Applications」
 IVC参加者 56,000円
 学 生    28,000円
 一 般    84,000円

1日コース(9月11日 9:00-16:00)
「Scanning Probe Microscopy」
 IVC参加者 24,000円
 学 生    12,000円
 一 般    36,000円

1日コース(9月11日 10:00-18:00)
「Reactive Magnetron Sputter Deposition」
 IVC参加者 28,000円
 学 生    14,000円
 一 般    42,000円

1日コース(9月11日 14:00-18:00)
「Introduction to High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)」
 IVC参加者 16,000円
 学 生    8,000円
 一 般    24,000円

半日コース(9月16日 3講座とも)
 IVC参加者 12,000円
 学 生    6,000円
 一 般    18,000円

※受講料は「on site」「online」ともに同額です。
※学生はIVCの参加/非参加に関わらず「学生」区分の料金となります。

※1日コース、2日間コースを受講される方には、お弁当と飲み物を用意します。

申込方法

IVC-22ホームページからお申込みください。
 申込み時に「on site」(対面での受講)、「online」の選択が可能です。
 申込み後に変更が必要になった場合は、お問い合わせください。

申込締切 2022年8月31日(水)

協賛

日本真空工業会

備考

問合せ先
 IVC-22運営事務局
 E-mail: ivc2022@c-linkage.co.jp  TEL 011-272-2151



日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

Copyright ©2018- The Japan Society of Vacuum and Surface Science