公益社団法人 日本表面真空学会



真空展「薄膜の基本技術講座」(2019.9.4-6)

主催

日本表面真空学会

開催日

2019年9月4日(水)~6日(金)

締切日

2019年08月30日

会場

パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204 交通アクセス
(神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1)

プログラム

「薄膜の基本技術講座」全6講座/各講座2時間 (講義時間には、休憩、質疑時間を含みます)

9月4日(水) 12:30~14:30
スパッタ薄膜の組成制御,構造制御

9月4日(水) 15:00~17:00
半導体・LSIの薄膜プロセスと評価

9月5日(木) 12:30~14:30
ディスプレイ,半導体産業,成膜,表面分析に役立つ高真空技術

9月5日(木) 15:00~17:00
プラズマプロセスによるダイヤモンドライクカーボン薄膜堆積の基礎とその応用

9月6日(金) 12:30~14:30
LED・ワイドギャップ半導体素子製造プロセスと結晶成長の課題

9月6日(金) 15:00~17:00
真空蒸着:成膜の基礎および光学薄膜

参加定員

各講座とも54名

費用

各講座とも 一般 5,000円、学生 1,000円 (テキスト代・消費税込)
※テキストは講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものです。

申込方法

上記各講座のリンク先よりお申込みください。

支払方法

当日、会場(会議室E204)前の受付にてお支払いください。
※なるべくお釣りのないようご準備ください。

備考

「VACUUM2019 真空展」ホームページ: https://biz.nikkan.co.jp/eve/vacuum/



日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

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