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[ml] SP部会技術講習会(11/28)のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；中野武雄（成蹊大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
2024年度技術講習会

スパッタリング製膜において、構造や組成の制御に役立つ知識を解説します。スパッタプロセスの基礎過程（特に輸送過程）、粒子エネルギーと薄膜構造の相関、高密度プラズマを用いて堆積粒子をイオン化しエネルギーを付与する手法、反応性スパッタリングのプロセス制御、背景圧力が薄膜の不純物混入に与える影響などについて、講師が過去に実施してきた研究例を含めて紹介します。

日　時：2024年11月28日（木）10:00～16:30（開場9:30～）

会　場：機械振興会館地下3階 B2-2室
　　　　〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8

講　師：中野　武雄（成蹊大学理工学部教授、SP部会長）

題　目：スパッタリング製膜プロセスの背景知識と膜質制御

講義内容
1．スパッタリング製膜の基礎過程
ターゲットにおける粒子放出過程
スパッタ粒子の輸送過程
2．スパッタリング薄膜の形成過程と薄膜構造
PVD薄膜形成の基礎
スパッタ薄膜構造のゾーンモデル
薄膜の構造と物性
3．プラズマを制御するスパッタリング製膜法
プラズマの基礎とプラズマ－壁相互作用
大電力パルススパッタ (HiPIMS)、
HiPIMSを用いた薄膜構造制御・微細構造作製技術
4．反応性スパッタリング
金属モード・化合物モードとヒステリシス
Bergの反応性スパッタリングモデル
プロセスパラメータ平面におけるモード遷移点のユニバーサリティ
5．その他の話題
ターゲットエロージョンプロファイルの時間変化
真空環境と薄膜への不純物混入