日本表面真空学会

2025年3月13日（木）13:00～17:00（受付開始12:30～）

機械振興会館 地下3階 B3-6会議室
（〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8）

ＡＩ技術が急速に発展する現在の社会において、常に求められているのは、さらなる新材料・新機能である。新しい機能性材料の創製は従来の材料設計学理の革新あるいは新規材料作製プロセスの導入によってもたらすものである。スパッタリング成膜は半導体やエレクトロニクス産業をはじめ、多くの分野で広く使われている代表的な薄膜作製手法であるが、技術革新が加速する現在、従来の枠組みを超えた新規機能性材料の創製方法の創出が重要な課題となっている。本研究会では、伝統的な成膜プロセスの改良による材料機能の飛躍的向上および新材料の創製、さらに機械学習を活用した新しい機能性材料開発の最先端研究成果を紹介する。

テーマ
　成膜プロセスの進展による高性能材料の創出

プログラム　※講演時間40分（質疑応答5分間含む）
13:00～13:05　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会 部会長　中野 武雄（成蹊大学）

13:05～13:45
「機械学習とロボットを活用した薄膜新材料探索」
　西尾 和記（東京科学大学）

13:45～14:25
「硫黄プラズマを用いた硫化物薄膜の作製」
　鈴木 一誓（東北大学）

14:25～15:05
「プラズマ成膜プロセスによる高キャリア移動度フレキシブル透明導電膜の実現」
　野本 淳一（産業技術総合研究所）

15:05～15:25　休　憩

15:25～16:05
「スパッタリング成膜におけるボンバード効果と薄膜の機能」
　賈 　軍軍（早稲田大学）

16:05～16:45
「ＩＧＺＯのスパッタ薄膜と新規物性」
　井手 啓介（東京科学大学）

16:45～16:50　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会 副部会長　清水 徹英（東京都立大学）

35名

SP部会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
教育機関、公的機関に属する方：12,000円
学生： 1,000円
一般：28,000円
（資料代・消費税を含む）

＊日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員の企業名はこちらをご確認ください。

こちらの申込フォームからお申込みください。
※お申込み完了後、受付完了メールが自動返信されます。
　受付完了メールが届かない場合は、office@jvss.jp へご連絡ください。

申込締切　2025年2月27日（木）

銀行振込
＊申込受付完了後、請求書をメール添付でお送りします。
（銀行振込のため領収書は発行いたしません。ご了承ください。）

＊「参加者の都合による取消し及び不参加」の場合、参加費の払い戻しはいたしません。ただし、参加者の変更は差し支えありません。

問合せ先
　公益社団法人日本表面真空学会 事務局
　E-mail: office@jvss.jp　　TEL 03-3812-0266

本件担当
　日本表面真空学会SP部会　賈 軍軍（早稲田大学）、入澤寿和（キヤノンアネルバ）