公益社団法人 日本表面真空学会



スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)第177回定例研究会

主催

日本表面真空学会

開催日

2024年3月15日(金)13:00~16:50(受付開始12:30~)

締切日

2024年02月29日

会場

機械振興会館 地下3階 B3-1会議室
〒105-0011 東京都港区芝公園3-5-8

プログラム

 近年パソコン、スマートフォンや自動車向けに磁気デバイスの需要が高まっています。磁性薄膜を活用した磁気デバイスとしてはまずハードディスクが挙げられます。磁気記録媒体や磁気ヘッドの技術は今なお進化を続け、TB(テラバイト)を悠に超える記憶容量まで到達しています。近年このハードディスクの磁気ヘッド技術を応用した磁気センサー市場も自動車向けに急成長しています。更に磁気デバイスと半導体デバイスを融合したMRAM(磁気ランダムアクセスメモリ)がいよいよ市場に本格投入され始めています。
 本研究会では、磁気デバイスで使用される磁性薄膜の歴史および今後の技術動向と磁気デバイスの製造技術および分析技術について、大学、国立研究機関、企業でご活躍中の講師をお招きしてご講演頂きます。磁性分野のみならず異分野の研究者の皆様との交流の機会を設ける場として活用していただきたく、多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます。

テーマ
 磁性薄膜を活用した最先端磁気デバイスの作成および分析に関する技術の動向

プログラム ※講演時間40分(質疑応答5分間含む)
13:30~13:35 開会の挨拶
 日本表面真空学会SP部会 部会長 後藤康仁(京都大学)

13:05~13:45
「磁気デバイスの低消費電力駆動化に向けた新機能磁性薄膜の作製」
 -反応性パルスDCスパッタリングによる高品位化-
 吉村 哲(秋田大学)

13:45~14:25
「走査トンネル顕微鏡と量子スピン顕微鏡による磁性薄膜の原子レベル磁気観察」
 山田豊和(千葉大学)

14:25~15:05
「強磁性薄膜のスピントロニクスデバイス応用」
 中谷友也(物質・材料研究機構)

15:05~15:25 休 憩

15:25~16:05
「HDメディアの歴史と展望」
 酒井浩志(レゾナック)

16:05~16:45
「磁性多層薄膜デバイスの成膜技術」
 恒川孝二(キヤノンアネルバ)

16:45~16:50 閉会の挨拶
 日本表面真空学会SP部会 副部会長 清水徹英(東京都立大学)

参加定員

35名

費用

SP部会員:無料
日本表面真空学会個人正会員:23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方:18,000円
教育機関、公的機関に属する方:12,000円
学生: 5,000円
一般:28,000円
(資料代・消費税を含む)

※講演資料集冊子を会議に先だって郵送します。

申込方法

こちらの申込フォームからお申込みください。
※お申込み完了後、受付完了メールが自動返信されます。
 受付完了メールが届かない場合は、office@jvss.jp へご連絡ください。

申込締切 2024年2月29日(木)

支払方法

銀行振込(申込受付完了後、請求書をメール添付でお送りします。)

※「参加者の都合による取り消し及び不参加」の場合、参加費の払い戻しはいたしません。
 ただし、参加者の変更は差し支えありません。

備考

問合せ先
 公益社団法人日本表面真空学会 事務局
 E-mail: office@jvss.jp  TEL 03-3812-0266

本件担当
 日本表面真空学会SP部会 入澤寿和(キヤノンアネルバ)、中川原修(I-PEX Piezo Solutions)



日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

Copyright ©2018- The Japan Society of Vacuum and Surface Science