公益社団法人 日本表面真空学会



日本-ベルギー 二国間研究交流ワークショップ~プラズマプロセスが切り拓く次世代表面処理技術の開発動向~

共催

日本表面真空学会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)、
東京都立産業技術研究センター、応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会、
表面技術協会 高機能トライボ表面プロセス部会

後援
日本学術振興会、ベルギー国立科学研究基金

開催日

2022年12月5日(月)10:00~18:15

締切日

2022年12月01日

会場

東京都立産業技術研究センター(本部)
 講演会会場:5F講堂
 技術交流会(ポスター形式)会場:5F食堂
 アクセス(最寄り:テレコムセンター)

プログラム

(SP部会 第172回定例研究会・第19回技術交流会)
(表面技術協会 高機能トライボ表面プロセス部会 第20回例会)
(応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会 新領域研究会(12月5日))
日本-ベルギー 二国間研究交流ワークショップ
~プラズマプロセスが切り拓く次世代表面処理技術の開発動向~

 この度は、ベルギー王女主宰経済使節団の来日に合わせて、日本およびベルギーの二国間の研究者交流と両国の持続的な研究ネットワークの形成を目的として、日本学術振興会およびベルギー国立科学研究基金(Fonds de la Recherche Scientifique-FNRS:F.R.S.-FNRS)の後援の元、プラズマプロセスに携わる日本-ベルギーの研究者間の研究交流ワークショップを本部会の定例研究会として開催する運びとなりました。スパッタリングを始めとしたプラズマプロセスの最先端技術に携わる国内およびベルギーの著名な研究者による講演およびSP部会員を中心としたポスターセッション形式による技術交流会を企画しております。この技術交流会を機会に是非会員相互で有益な技術情報を交換していただき、会員各社のさらなる技術的発展につながればと考えております。また技術交流会は、部会員以外の方の参加も歓迎いたします。皆様の奮ってのご参加をお待ちしております。多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます。

講演プログラム ※講演時間30分(質疑応答5分間含む)
10:00~10:30 開会式  司会:東京都立大学 清水徹英
         後援・共催団体代表による挨拶:
         日本学術振興会、ベルギー国立科学研究基金、東京都立産業技術研究センター、共催三部会

10:30~10:45 “Introduction of FNRS-JSPS bilateral activities, “UpRISING”,
         Prof. Tetsuhide Shimizu (Tokyo Metropolitan University, Japan)

10:45~11:15 “Innovative PVD strategies for the design of novel TiO2-based photoanode”,
         Prof. Rony Snyder (University of Mons, Belgium)

11:15~11:45 “Fabrication of isolated nanocolumnar structures by glancing-angle deposition in reactive plasma environments”,
         Prof. Yasushi Inoue (Chiba Institute of Technology, Japan)

11:45~12:00 技術交流会 ショートプレゼン

12:00~13:00 昼食休憩

13:00~13:30 “Thin film synthesis using atmospheric pressure dielectric barrier discharges : from uncontrolled amorphous organic films to chemically patterned and crystalline coatings.”,
         Prof. François Reniers (Université Libre de Bruxelles, Belgium)

13:30~14:00 “Deposition of diamond-like carbon film by high power pulse magnetron sputtering”,
         Prof. Takayuki Ohta (Meijo University, Japan)

14:00~14:30 “Bipolar high power impulse magnetron sputtering: a route to tailor the film properties”,
         Prof. Matthieu Michiels (Haute Ecole en Hainaut, Belgium)

14:30~15:15 技術交流会(ポスター形式)およびコーヒーブレイク

15:15~15:45 “Understanding pulsed sputtering via imaging of the ground state particles”,
         Prof. Nikolay Britun (Nagoya University, Japan)

15:45~16:15 “Toward a low pressure plasma Virtual Coater by fast multiscale computer modeling algorithms”,
         Prof. Stefan Lukas (University of Namur, Belgium)

16:15~17:00 技術交流会(ポスター形式)およびコーヒーブレイク

17:00~17:30 “Europe/Japan collaboration in the field of surface treatment technology”,
         Dr. Koichi Suzuki (Surftech Transnational, Japan)

17:30~18:00 “Sputtering onto liquids substrate, towards the synthesis of nanoparticles”,
         Prof. Stephanos Konstantinidis (University of Mons, Belgium)

18:00~18:10 閉会の挨拶

※本ワークショップ閉会後に、ご参加の皆様の情報交換を兼ねた懇親会(会費制)を予定しております。
 場所:中華料理 唐苑 お台場青海店(予定)
 懇親会の詳細につきましては参加希望者に別途ご案内させていただきます。

参加定員

70名程度

費用

参加費
 無 料

テキスト代(消費税込)
 共催団体部会 会員:無料
 共催学協会 個人・法人(団体)正会員、維持会員、賛助会員に属する方:3,000円
 教育機関、公的機関に属する方:3,000円
 学生:無料(講演資料集冊子の配布はございません)
 一般:5,000円
 技術交流会発表者:無料

申込方法

こちらの申込フォームからお申込みください。
※お申込み完了後、受付完了メールが自動返信されます。
 受付完了メールが届かない場合は、office@jvss.jp へご連絡ください。

※技術交流会にてショートプレゼンテーションの発表をご希望の方は上記の申込みとは別に
 第19回技術交流会への発表申込みも必要です。

申込締切: 2022年11月21日(月)11月24日(木)12月1日(木)

支払方法

銀行振込
 申込受付完了後、請求書をメール添付でお送りします。
 振込口座:みずほ銀行 本郷支店(普通)4162244 シヤ)ニホンヒヨウメンシンクウガツカイ
※参加者の都合による取り消し及び不参加の場合、参加費の払い戻しはいたしません。
 ただし、参加者の変更は差し支えありません。

クレジット決済(PayPal)

テキスト代

備考

問合せ先
 公益社団法人日本表面真空学会 事務局
 TEL: 03-3812-0266  E-mail: office@jvss.jp

本件担当
 日本表面真空学会 SP部会 清水徹英(東京都立大学)、黒岩雅英(東京電子株式会社)



日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

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