スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第171回定例研究会

主催

日本表面真空学会

開催日

2022年8月1日（月）13:40～16:50（現地、オンラインともに13:15～入室可能）

締切日

2022年07月20日

会場

機械振興会館 6D-4会議室およびオンライン
〒105-0011　東京都港区芝公園3-5-8

プログラム

　絶縁性、圧電性、超伝導性、透明性など幅広い物性バリエーションを有する酸化物材料は様々なデバイス応用が検討されています。移動体通信技術をとってみても、beyond5G/6Gへの移行に伴い数多くのデバイスが必要になり、機能性酸化物薄膜の出番は加速度的に増すことが予想されます。今回、機能性酸化物薄膜の次世代デバイス応用をメインテーマとする研究会を企画しました。最先端の研究をご紹介いただくとともに、実用化に繋がる有益な議論の場となることを期待いたします。

テーマ
　機能性酸化物薄膜の次世代デバイス応用

開催方法
　ハイブリッド（対面＋Zoom）
　　講師は会場で講演予定。ただし変更があるかもしれません。
　※講演資料集冊子を会議に先だって郵送します。
　　オンラインの参加URLは、お申込みいただいた方全員に開催日1週間前にご案内します。

プログラム　※講演時間40分（質疑応答5分間含む）
13:40～13:45　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会　部会長　後藤康仁（京都大学）

13:45～14:25
「デジタル処理DCスパッタによる機能性酸化物の原子層精度堆積とフォトニクス応用」
　一色秀夫（電気通信大学）

14:25～15:05
「ペロブスカイト型酸化物薄膜の機能発現とデバイス応用」
　高島　浩（産業技術総合研究所）

15:05～15:25　休　憩

15:25～16:05
「酸化物ナノワイヤの機能設計と分子認識エレクトロニクス展開」
　長島一樹（東京大学）

16:05～16:45
「圧電MEMSのための鉛複合酸化物のスパッタエピタキシー」
　吉田慎哉（芝浦工業大学）

16:45～16:50　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会　小寺恭介（昭和真空）

禁止事項
　本研究会参加にあたり、下記の行為を禁止します。ご協力お願いします。
（1）本研究会への参加申込者以外が本研究会を視聴すること
（2）本研究会のミーティングID、パスワード、URLを第三者に知らせること
（3）発表画面、音声等をパソコンやその他の記録メディアに保存すること
（4）発表画面、音声、資料等をインターネット上のネットワーク配信サイト等へ配布すること
（5）他の参加者又は発表者に迷惑・不利益を与える行為
（6）その他著作権法等の法令に反する行為

参加定員

対面：35名
オンライン：20名（希望者が多い場合は変更の可能性があります。）

費用

SP部会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
教育機関、公的機関に属する方：12,000円
学生： 5,000円
一般：28,000円
（資料代・消費税を含む）

申込方法

申込みは終了しました。

申込締切： 2022年7月20日（水）

新型コロナウィルス感染防止対策
・当日は事前に郵送した講演資料集冊子をご持参ください。資料をお持ちの方のみ入室できます。
・当日はマスクの着用と手指の消毒をお願いします。
・対面参加予定の方で、当日体調不良ないしは発熱のある方は対面参加を取りやめてオンラインでご参加ください。
・当日、会場での体調チェックを受けていただき、発熱等がある場合は、対面での参加をお断りすることがあります。