スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）第167回定例研究会

主催

日本表面真空学会

開催日

2021年6月24日（木）13:00～16:50（接続受付12:30～）

締切日

2021年06月16日

会場

オンライン（Zoom）

プログラム

　現在、機械学習はあらゆる分野において世界規模で活用されています。マテリアルズインフォマティックス分野では新たな機能性物質の探索や様々なプロセスの最適化等、機械学習を用いた研究が盛んに行われ、研究開発を加速させています。機械学習では複雑に絡み合った膨大なパラメータ間の関連性を明らかにし、実験やシミュレーションだけでは得られない新たな知見を浮かび上がらせることが可能です。本研究会では、研究開発において強力な手法の一つであり、関心と期待が高まっている機械学習について、成膜・プラズマプロセス分野において新たな領域開拓に向けて第一線で活躍されている講師の先生方をお招きし、最新の動向をご講演いただきます。多くの皆様のご参加を心よりお待ち申し上げます。

テーマ
　機械学習が拓く成膜・プラズマプロセス最前線

開催方法
　オンライン（Zoom）
　※講演資料集冊子を会議に先だって郵送します。
　　当日のアクセスの詳細は、お申込みいただいた方に別途ご案内します。

プログラム　※講演時間40分（質疑応答5分間含む）
13:00～13:05　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会　部会長　後藤　康仁（京都大学）

13:05～13:45
「データ駆動型材料開発の潮流と薄膜成長プロセスへの応用」
　知京　豊裕（物質・材料研究機構）

13:45～14:25
「機械学習を活用した分子線エピタキシー薄膜成長のclosed-loop optimization」
　大久保勇男（物質・材料研究機構）

14:25～15:05
「全自動・自律的合成システムによる機能性無機薄膜材料創製」
　清水　亮太（東京工業大学）

15:05～15:25　休　憩

15:25～16:05
「データ駆動プラズマ科学と半導体プロセス」
　浜口　智志（大阪大学）

16:05～16:45
「インテリジェント制御による半導体製造装置のイノベーション」
　守屋　　剛（東京エレクトロン）

16:45～16:50　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会　稗田　純子（名古屋大学）

禁止事項
　本研究会参加にあたり、下記の行為を禁止します。ご協力お願いします。
（1）本研究会への参加申込者以外が本研究会を視聴すること
（2）本研究会のミーティングID、パスワード、URLを第三者に知らせること
（3）発表画面、音声等をパソコンやその他の記録メディアに保存すること
（4）発表画面、音声、資料等をインターネット上のネットワーク配信サイト等へ配布すること
（5）他の参加者又は発表者に迷惑・不利益を与える行為
（6）その他著作権法等の法令に反する行為