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[ml] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）2026年度勉強会のご案内

[ml] スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）2026年度勉強会のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；中野武雄（成蹊大学、日本表面真空学会SP部会長）

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会）
2026年度勉強会「スパッタ法で得られる薄膜の構造」

本部会では、スパッタ法において出現する薄膜構造に焦点を当てた勉強会を開催いたします。低基板温度で緻密・平坦な薄膜構造が得られることは、古くから知られているスパッタ法の特徴のひとつです。ThorntonやAndersによる構造ゾーンモデルでは、圧力、基板温度、粒子エネルギーなどの実験パラメータを用いて、どのようなパラメータ領域（ゾーン）でどのような構造が出現するかが整理されていますが、その背景にある原理については、現在に至るまで議論が続いています。本勉強会では、3名の講師に、これまでの研究の概観から最新の研究成果、応用事例に至るまで多角的な話題を提供いただきます。
本勉強会では恒例として、講演ごとに参加者全員で自由闊達な意見交換を行うためのフリーディスカッションの時間を長めに設け、研究の現状や課題、今後の展望について率直に語り合う場とします。通常のセミナー形式とは異なり、双方向の交流を重視した構成とすることで、新たな研究連携や着想の契機となることを目指しています。会員・非会員を問わず、スパッタ製膜に関心をお持ちの研究者・技術者の皆さまの積極的なご参加を心よりお待ちしております。

日時：2026年11月25日（水）13:30～17:00

場所：早稲田大学西早稲田キャンパス 62号館森村記念ラウンジ
　　（〒169-8555 東京都新宿区大久保3-4-1）

プログラム：
13:30～13:35　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会部会長（成蹊大学）中野武雄
13:35～14:35（30分講演 30分質疑）
「スパッタ薄膜の成長原理とイオン衝撃 ―ガスイオンから金属イオン照射への展開―」
（東京都立大学）清水徹英
14:35～14:45　休憩
14:45～15:45（30分講演 30分質疑）
「スパッタ成膜中のin-situ応力観測による入射粒子運動量と成長機構解析」
（1東京科学大学, 2(株)アルバック）中川茂樹1，関根拓豊1，飯田大介1，高村陽太1※，清田哲司2，中光豊2
　※現所属：KIOXIA(株)
15:45～15:55　休憩
15:55～16:55（30分講演 30分質疑）
「飛来粒子運動エネルギー評価に基づくスパッタ薄膜の構造・物性制御」
　（1早稲田大学, 2青山学院大学）賈軍軍1, 重里有三2
16:55～17:00　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会副部会長（東京都立大学）清水徹英

参加費
SP部会会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
教育機関、公的機関に属する方：12,000円
学生： 1,000円
一般：28,000円
※資料の配布はございません。

参加定員：30名

申込締切：2026年11月19日（木）

申込方法：ホームページよりお申込みください。
　https://www.jvss.jp/ja/activities/40/detail/00037.html

問合せ先：日本表面真空学会事務局　E-mail: office＠jvss.jp

＜本メールは日本表面真空学会より会員の皆様宛に配信しております。＞