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[ml] 半導体プラズマプロセスに関する国際ワークショップ（沖縄）のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；浜口智志（大阪大学）

JVSS原子層プロセス研究会の協賛する半導体プラズマプロセス分野の3件の国際ワークショップPlaCEP-4, PPW-2, IUVSTA-117を同時開催いたします。
本会は最先端の微細加工技術、特にクライオプロセスと原子層プロセスを主軸に、基盤となるプラズマプロセス一般を議論する国際ワークショップです。世界最先端の研究に携わる国内外の研究者が多く参加することが期待され、国境を越えた活発な意見交換の場となります。セッションはすべて単一会場で連続して行われるため、パラレルセッションによる見逃しがなく、すべての講演・議論に無理なく参加できます。詳細およびお申し込みはウェブサイトをご覧ください。皆様のご発表・ご参加をお待ちしております。

■会議名
4th International Workshop on Plasma Cryo Etching Processes (PlaCEP-4)
2nd German-Japanese Plasma Processing Workshop (PPW-2)
117th IUVSTA Workshop on Advanced Plasma Processing for Atomic Scale Precision (IUVSTA-117)
■期日
　2027年3月8日～12日
■会場
　万国津梁館（沖縄県名護市）
■website
　https://www.insd.osaka-u.ac.jp/ppl/Conferences/PPW-2/
■言語と開催形式
　英語（現地開催のみ；online 参加はありません。）
■アブストラクト投稿締切
　2026年11月15日
■お問い合わせ先
　浜口智志（大阪大学）E-mail: s.hamaguchi.insd@osaka-u.ac.jp　Tel: 06-6850-8468

＜本メールは日本表面真空学会より会員の皆様宛に配信しております。＞