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[ml] 真空技術部会2026年10月研究例会(10/16)のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；山本将博（真空技術部会長）

日本表面真空学会 真空技術部会2026年10月研究例会
主題「真空システム・材料表面のクリーン化技術：表面清浄化とダスト制御」

近年の最先端科学技術および産業界において、真空環境に求められる「クリーンさ」への要求はますます高度化しています。半導体微細プロセスをはじめ、近年では量子技術開発、先端表面分析、宇宙開発、核融合炉、超伝導加速器にいたるまで、異物（ダスト・パーティクル）や残留有機汚染を極限まで排除した「超清浄真空（Ultra Clean Vacuum: UCV）」技術の確立が不可欠となっています。これらの環境を達成・維持するためには、容器・材料表面の清浄化技術、ならびに粉体・ダスト制御、抑制にいたる包括的なアプローチが重要です。本研究例会では、これらクリーン化技術の最前線で活躍する専門家をお招きし、実際の研究・開発についての講演を予定しています。皆様の積極的なご参加をお待ちしております。

日時：2026年10月16日（金）13:15～16:35

会場：機械振興会館 地下3階 研修-2会議室 およびオンライン（Zoom）
　　（〒105-0011　東京都港区芝公園3−5−8）

講演プログラム：
13:15～13:20　開会の挨拶
　　　　　　　山本 将博（真空技術部会）
13:20～14:05「高速エアジェットによる固体表面乾式洗浄の高効率化」
　　　　　　　後藤 邦彰（岡山大学工学部 化学生命系学科）
14:05～14:50「超伝導加速空洞の高性能化に必要なクリーン真空技術」
　　　　　　　阪井 寛志（高エネルギー加速器研究機構）
14:50～15:00　休憩
15:00～15:45「三愛オブリテックができる化学研磨/電解研磨」
　　　　　　　塩野入 正和（三愛オブリテック株式会社）
15:45～16:30「プラズマ・ラジカルを利用した原子層表面プロセス」
　　　　　　　石川 健治（名古屋大学 低温プラズマ科学研究センター）
16:30～16:35　閉会の挨拶
　　　　　　　関口 信一（真空技術部会）

協　賛：応用物理学会、精密工学会、電気化学会、日本顕微鏡学会、日本真空工業会、日本光学会、粉体工学会（予定）

参加費：
日本表面真空学会会員個人正会員：3,000円
日本表面真空学会会員法人正会員・維持会員・賛助会員に属する方：3,000円
協賛学協会会員（法人含む）：3,000円
非会員：5,000円
学生（予稿集購入）：1,000円
学生（予稿集不要）：無料
※上記金額には消費税、予稿集代を含みます。

参加定員：現地90名、オンライン100名

申込締切：2026年9月30日（水）

申込方法：ホームページよりお申し込みください。
　　　　　https://www.jvss.jp/ja/activities/41/detail/00010.html

問合せ先：日本表面真空学会 事務局　E-mail: office@jvss.jp

＜本メールは日本表面真空学会より会員の皆様宛に配信しております。＞