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[ml] VACUUM2025真空展「真空と薄膜の基本技術講座」のご案内

対象：会員および一般

速報発信者；神谷潤一郎（日本原子力研究開発機構、真空と薄膜の基本技術講座担当）

VACUUM2025真空展併催
「真空と薄膜の基本技術講座」のご案内

薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。本講座は、成膜時の真空環境構築に必要な超高真空技術、産業的に不可欠な真空蒸着やスパッタリングに関する成膜法の基本を、各分野の専門家が解説する魅力的な内容です。

●12月4日(木) 12:30-14:30
「半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術」
　講師；恒川 孝二（キヤノンアネルバ株式会社）

●12月4日(木) 15:00-17:00
「超高真空技術」
　講師；山川 紘一郎（日本原子力研究開発機構）

●12月5日(金) 12:30-14:30
「真空蒸着法、有機EL製造技術（仮）」
　講師；藤本 弘（有機光エレクトロニクス実用化開発センター）

●12月5日(金) 15:00-17:00
「スパッタ成膜の組成及び構造制御」
　講師；沖村 邦雄（東海大学）

会　　場：東京ビッグサイト 南ホール2階 南1-商談室(3)
定　　員：各講座とも28名
受  講  料：一般6,000円/講座、学生1,500円/講座（テキスト代・消費税込）
申込締切：2025年11月20日（木）

内容、申込方法等の詳細につきましては下記Webページをご覧ください。
https://www.jvss.jp/ja/activities/26/detail/00039.html

問合せ先：公益社団法人日本表面真空学会 事務局　E-mail: office@jvss.jp

＜本メールは日本表面真空学会より会員の皆様宛に配信しております。＞