日本表面真空学会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会

2026年11月25日（水）13:30～17:00（開場13:00～）

早稲田大学 西早稲田キャンパス 62号館 森村記念ラウンジ
（〒169-8555 東京都新宿区大久保3-4-1）

13:30～13:35　開会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会 部会長（成蹊大学）中野 武雄

13:35～14:35（30分講演 30分質疑）
「スパッタ薄膜の成長原理とイオン衝撃 ―ガスイオンから金属イオン照射への展開―」
（東京都立大学）清水 徹英

14:35～14:45　休 憩

14:45～15:45（30分講演 30分質疑）
「スパッタ成膜中のin-situ応力観測による入射粒子運動量と成長機構解析」
（¹ 東京科学大学, ² (株)アルバック）中川 茂樹 ¹，関根 拓豊 ¹，飯田 大介 ¹，高村 陽太 ¹※，清田 哲司 ²，中光 豊 ²
　※現所属：KIOXIA(株)

15:45～15:55　休 憩

15:55～16:55（30分講演 30分質疑）
「飛来粒子運動エネルギー評価に基づくスパッタ薄膜の構造・物性制御」
（¹ 早稲田大学, ² 青山学院大学）賈 軍軍 ¹, 重里 有三 ²

16:55～17:00　閉会の挨拶
　日本表面真空学会SP部会 副部会長　清水 徹英（東京都立大学）

30名

SP部会会員：無料
日本表面真空学会個人正会員：23,000円
日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員に属する方：18,000円
教育機関、公的機関に属する方：12,000円
学生： 1,000円
一般：28,000円
（消費税込）

※日本表面真空学会法人正会員、維持会員、賛助会員の企業名はこちらをご確認ください。
※資料の配布はございません。

こちらの申込フォームからお申し込みください。
※お申込み完了後、受付完了メールが自動返信されます。
　受付完了メールが届かない場合は、office@jvss.jp へご連絡ください。
（迷惑メールに振り分けられている可能性がありますので、まずはご確認ください。）

申込締切　2026年11月19日（木）

銀行振込（申込受付完了後、請求書をメール添付でお送りします。）

銀行振込のため領収書は発行いたしません。銀行が発行いたします受領書をもって本会の領収書に代えさせていただきます。
なお、「参加者の都合による取消し及び不参加」の場合、参加費の払い戻しはいたしません。
ただし、参加者の変更は差し支えありません。

問合せ先
日本表面真空学会 事務局　E-mail: office@jvss.jp

本件担当
日本表面真空学会 SP部会　清水 徹英（東京都立大学）