公益社団法人 日本表面真空学会

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VACUUM2025真空展「真空と薄膜の基本技術講座」

主催

日本表面真空学会

開催日

2025年12月4日(木)〜5日(金)

締切日

2025年11月20日

会場

東京ビッグサイト 南ホール2階 南1-商談室(3)
(東京都江東区有明3-11-1)

プログラム

<半導体、電子部品産業で役立つ真空工学・薄膜作製の基本技術が学べます。>
 薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。本講座は、成膜時の真空環境構築に必要な超高真空技術、産業的に不可欠な真空蒸着やスパッタリングに関する成膜法の基本を、各分野の専門家が解説する魅力的な内容です。

◆12月4日(木)12:30~14:30(受付12:00~)
半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術
講師:恒川 孝二(キヤノンアネルバ株式会社 取締役 最高技術責任者)
内容:1.各種成膜手法とスパッタ成膜の特徴
   2.スパッタ成膜の原理
   3.様々なスパッタ装置と成膜プロセス
   4.半導体・電子デバイスへの応用例
   5.スピントロニクスデバイスの成膜技術
<参加のおすすめ>
 スパッタ成膜は半導体・電子デバイスの製造に広く使われています。最近では、スパッタ成膜装置の技術の進歩により、ナノメートルオーダーの薄膜やそれらを積層した多層膜を成膜することが可能となりました。それによってデバイス性能が大きく進歩したり、今までに知られていなかった物理現象が発見されて新しいデバイスが生み出されたりするようになりました。本講では、スパッタ成膜の特徴、スパッタ成膜の原理、様々なスパッタ成膜装置と成膜プロセスについて概説した後、ナノメートルオーダーの超薄膜を利用した半導体・電子デバイスについて紹介し、超薄膜デバイスの代表格ともいえるスピントロニクスデバイスの成膜技術について紹介します。

◆12月4日(木)15:00~17:00(受付14:30~)
超高真空技術
講師:山川 紘一郎(日本原子力研究開発機構 先端基礎研究センター 研究副主幹)
内容:1.超高真空の基礎
   2.超高真空材料
   3.真空ポンプと真空計
   4.装置製作技術
   5.薄膜と超高真空
<参加のおすすめ>
 超高真空技術は、半導体やフラットパネルディスプレイの産業分野に不可欠であり、成膜の分野においても、薄膜の品質を高める上で大変重要です。本講座では、超高真空に関する知識とノウハウを具体的かつ丁寧に説明します。基礎から超高真空技術を学びたい方、装置の製作・改良・運用技術を磨きたい方は、是非ご参加ください。

◆12月5日(金)12:30~14:30(受付12:00~)
真空蒸着法、有機EL製造技術(仮)
講師:藤本 弘 (福岡県産業・科学技術振興財団 有機光エレクトロニクス実用化開発センター(i3-opera)
副センター長 兼 研究室長)
内容:1.はじめに:有機ELと薄膜形成技術
   2.真空蒸着の基礎と蒸発源
   3.有機EL素子製作と真空の質
<参加のおすすめ>
 真空蒸着法は、古くからある薄膜形成技術の一つです。有機ELディスプレイでは、比較的低温で蒸着する有機材料を長時間かつ大面積に均一に成膜することが求められます。このため、蒸着の基礎を理解することは非常に重要です。さらに、真空の質は有機EL素子の耐久性に大きな影響を与えます。本講座では、真空蒸着の基礎と真空の物理に関する基本的な知識を解説し、真空の質がいかに重要か、その研究成果を紹介します。

◆12月5日(金)15:00~17:00(受付14:30~)
スパッタ成膜の組成及び構造制御(仮)
講師:沖村 邦雄(東海大学 工学部 電気電子工学科 教授)
内容:1.スパッタ法の原理及びプラズマ特性とその制御
   2.スパッタ成膜の成膜パラメータと堆積膜の組成及び構造の関係
   3.反応性スパッタ法による酸化物薄膜堆積の特長と応用例
   4.基板バイアス印加の効果と構造制御の例
<参加のおすすめ>
 本講座では産業において薄膜堆積に多用されているスパッタ成膜法について、そのプロセスの基礎から応用及び薄膜物性との関係について解説します。スパッタ法の原理及びプラズマ特性について紹介した後、プロセス圧力等の成膜パラメータが薄膜の組成や構造にどのように影響するか調べます。酸素を導入する反応性スパッタによる酸化物薄膜堆積について詳しく解説します。本年は具体例を詳しく取り上げ、光学薄膜、透明導電膜、相転移酸化膜における組成及び膜構造や界面の状態と膜物性との関連を検討します。講師が行ってきた基板バイアス印加の効果についてもご紹介します。  (注)本講座の内容の一部は、真空夏季大学と重複しますのでご注意ください。

※上記講義時間には、休憩・質疑時間を含みます。

参加定員

各講座とも28名(定員になり次第締切とさせていただきます)

費用

一般 6,000円、学生 1,500円/講座(テキスト代・消費税込)

テキスト
講義用スライドを1ページあたり4スライドでモノクロ印刷したもの(A4サイズ)

申込方法

以下のVACUUM2025真空展のサイトよりお申込みください。
*お申込みには「VACUUM2025真空展」への入場登録が必要です。

12/4(木) 12:30-「半導体・電子デバイス製造における超薄膜のスパッタ成膜技術」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

12/4(木) 15:00-「超高真空技術」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

12/5(金) 12:30-「真空蒸着法、有機EL製造技術(仮)」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

12/5(金) 15:00-「スパッタ薄膜の組成及び構造制御(仮)」
◆一般の方はこちら
◆学生の方はこちら

支払方法

事前支払い(参加登録サイトにてクレジット決済)

備考

問合せ先
公益社団法人日本表面真空学会 事務局
E-mail: office@jvss.jp  TEL 03-3812-0266

日本表面真空学会 事務局
〒113-0033 東京都文京区本郷5-25-16 石川ビル5階 TEL:03-3812-0266 FAX:03-3812-2897 Email:

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