■ 巻頭言
■ 特集：シリコン最新技術の高感度画像センサへの展開
■ 連載企画
■ 談話室
■ 表面科学技術者資格認定試験例題
■ 先端追跡
■ FOCUS on e-JSSNT
■ 編集後記
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2015年8月21日に「圧倒的なシェアを誇るCMOSセンサー，2019年には150億ドル規模に」，「車載やセキュリティ，ゲームなど用途が拡大している」（EE Times Japan）という喜ばしい報道がありました。これはシリコンの最新の表面・界面技術に基づく成果ということです。最新シリコン技術が，我が国の半導体技術を，さらには我が国の産業全体を復活させることを願い，本特集号がその一助となることを願って編集させていただきました。研究紹介論文をご寄稿頂いた先生方にはまことにありがとうございました。 （嘉数 誠）
シリコン結晶中の不純物制御は，日本のお家芸といってもよく，半導体産業の黎明期より研究されてきた技術分野です。しかし，最近のデバイス製造現場では意外とゲッタリングに関する議論をすることはありません（結晶メーカー任せになっています）。近年，撮像デバイスや3次元積層集積デバイスなどが試作商品化される中で，基板を薄化することが求められ，プロセス開発に際してゲッタリング技術を見直さなければならないときが来ています。本特集を通じて古くて新しい最新のゲッタリング技術に接していただければと思っています。 （中村 誠）
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