■ 巻頭言
■ 特集：触媒CVD法による薄膜・プロセス技術
■ 実験ノウハウ
■ 先端追跡
■ FOCUS on e-JSSNT
■ 編集後記
|
触媒を介して発生したラジカル支援気相成長法の展開として
「触媒CVD技術による薄膜・プロセス技術」と題した特集号を企画提案し，
5編の研究紹介記事を編集しました。
加熱したタングステンフィラメント表面において
水素分子の触媒分解反応で形成された水素ラジカルを利用して
メタンガスからダイヤモンドを合成する手法に着目して，
タングステン表面の化学反応を半導体プロセスに応用することを発端に触媒CVD
(Cat-CVD: Catalytic CVD, Hot-wire CDV) と呼ばれ，
ラジカル支援気相成長法としては
スパッタリングやプラズマCVDが歴史・技術的に確立されていますが，
液晶ディスプレイ，有機ELデバイス，太陽電池などの分野で
プラズマ損傷を抑制した低温成膜法として注目されています。
触媒CVD技術を含む表面科学の今後の進展に期待します。
本特集号に快く研究紹介記事を寄稿して下さりました著者の先生方に感謝いたします。
（中村篤志）
|
|
