会誌「表面科学」

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 第23巻 第2号  2002年2月

Editor's Choice

SiO2とSi(001)界面の大規模モデル

表面科学 第23巻 第2号 (2002) p. 74
Contents


■ 巻頭言

表面研究における理論の役割

塚田 捷
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 73


■ 特集:半導体表面界面形成の微視的理解における理論の進展

(総合報告)
分子動力学法によるシリコン酸化膜の大規模モデリング

渡邉孝信,辰村光介,大泊 巖
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 74



(総合報告)
水素終端Si表面におけるGe成長の理論

奈良 純,大野隆央
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 81



(研究紹介)
微結晶形の緩和のダイナミクス
—平衡形の実現と島の崩壊—


上羽牧夫
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 88



(総合報告)
シリコン表面熱酸化初期過程の反応速度論

末光眞希
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 95



(研究紹介)
新しい物理モデルに基づいたシリコン熱酸化のシミュレーション

植松真司,影島博之,白石賢二
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 104



(研究紹介)
動的モード原子間力顕微鏡に現れる非保存的過程

佐々木成朗,塚田 捷
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 111


■ 論文

単層カーボンナノチューブカンチレバー:作製と応用

後藤芳孝,松本和彦,安武正敏,村松 宏,金 種〓 (〓は王偏に民)
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 116


■ 談話室

PSA-01(Practical Surface Analysis 2001)

田沼繁夫
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 123


■ 先端追跡

[R-262] CVDによるカーボンナノチューブの配向成長
堀尾吉已
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 125

[R-263] 走査反射電子顕微鏡による薄い絶縁膜/Si界面の観察
宮田典幸
Vol. 23, No. 2 (2002) p. 125


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