会誌「表面科学」

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 第21巻 第4号  2000年4月

Editor's Choice

ウェッジ型結晶に入射した電子ビームと結晶との相互作用の模式図.

表面科学 第21巻 第4号 (2000) p. 203
Contents


■ 巻頭言

表面科学の舞台

吉原一紘
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 187


■ 論文

シリコンプラズマ酸化過程のTight-binding分子動力学シミュレーション

山田有場,杉左近潔,遠藤 明,高見誠一,久保百司,宮本 明,北島正弘
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 188



有機化合物同定のためのTOF-SIMSフラグメントの類推とその再分類

高橋 元幾,広川吉之助,島田晋吾
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 193


■ 解説

Interpretation of TEM Images of Impurities in Electrodeposited Films

Shohei NAKAHARA
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 203



水素化脱硫触媒の表面科学的研究における最近の進歩

坂下幸雄,吉本昌雄
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 217


■ 研究紹介

界面張力とポリマーブレンド

山口政之
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 226



臭素吸着Si(111)表面の原子層エッチングと電子刺激脱離

持地広造,市川昌和
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 232


■ 談話室

第29回表面科学研究会
—SPM技術の最新の展開—


岩槻正志
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 239


■ 先端追跡

[R-226] DNA分子の電気伝導
松本卓也
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 240

[R-227] レーザー光走査による表面仕立
村上健司
Vol. 21, No. 4 (2000) p. 240


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