[前号 (Vol. 17, No. 12)] [次号 (Vol. 18, No. 2)] [会誌 総目次]
表面研究と装置開発 (image PDF 73K) 太田俊明 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 1
(解説) Surface-sensitive XAFS/DAFSによる半導体表面研究 大柳宏之，Douglas TWEET Vol. 18, No. 1 (1997) p. 2
(解説) 軟X線吸収微細構造（XAFS）分光法による表面吸着分子の研究 横山利彦 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 9
(解説) 表面XAFS研究への期待—新しい放射光利用技術の活用— 野村昌治 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 16
(解説) 高分散担持酸化物光触媒のXAFS 吉田郷弘 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 21
(解説) Laboratory XAFSでの電子材料および薄膜の分析 西萩一夫 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 29
(解説) 半導体表面の軟X線定在波解析 杉山宗弘 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 37
アルカリハライド結晶表面での水の吸着 三浦浩治，前田啓介，山田哲生 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 44
EL薄膜の作製と特性評価 中西洋一郎 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 48
近接場光学顕微鏡でどこまで高分解能像が得られるか? (2) 大津元一 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 55
[R-135] 二次元赤外分光法（2D-IR） 佐々木健 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 58
[R-136] 軟X線発光分光法 生天目博文 Vol. 18, No. 1 (1997) p. 58
