会誌「表面科学」

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 第14巻 第3号  1993年4月


■ 巻頭言

励起プロセスは表面の科学と工学の狭間か (image PDF 79K)
清水 肇
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 131


■ 小特集:励起表面でおこる現象の研究

(解説)
準安定原子による表面励起過程

増田 茂
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 132



(解説)
湿式太陽電池とその表面・界面状態

小林 光
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 139



(解説)
SR光によるアルカリハライド表面の動的過程の研究

鎌田雅夫,広瀬サユミ
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 146



(解説)
内殻電子励起による光刺激イオン脱離過程

田中健一郎
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 153


■ 解説

走査型トンネル顕微鏡(STM)による高温/低温観察

岩槻正志,北村真一,佐藤智重,天草貴昭
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 159



Ge/Ge(111)結晶成長シミュレーション

横塚達男
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 165


■ 論文

軟X線分光法を用いた Pd(薄膜)/ Si(基板)界面の非破壊深さ方向分析

川本 聡,平井正明,日下征彦,岩見基弘,中村初夫,渡部宏邦
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 170


■ ノート

TaC(100)面上の単原子層グラファイトからの光電子放出強度

奴賀謙治,長島礼人,大島忠平
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 175


■ ポピュラーサイエンス

写真感光材料におけるハロゲン化銀粒子の表面の役割

谷 忠昭
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 177


■ 先端追跡

[R-21] 薄膜成長機構解明へのX線回折法とホログラフィー技術の導入
永嶋誠一
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 184

[R-22] レーザーアブレーション(LA)におけるパルス幅の効果
田中勝己
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 184

[R-23] 脱離する励起分子の並進速度
松島龍夫
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 185

[R-24] 高温超伝導体物性評価に光明!
—110 K相 Bi系超伝導体単結晶の大型化成る—

西森克己
Vol. 14, No. 3 (1993) p. 185


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