日本表面真空学会

2019年9月6日（金）15:00～17:00（受付14:30～）

パシフィコ横浜 展示ホール2階 会議室E204　交通アクセス
（神奈川県横浜市西区みなとみらい1-1-1）

講　　師： 大工原 茂樹（元日本真空学会事務局長・元株式会社シンクロン）

講義内容： １．真空についての基礎的な事項
                ２．真空蒸着装置の構成と要素
                ３．真空蒸着による薄膜作製時のポイントと注意点
　　　　　  4．真空蒸着の発展技術～イオンプレーティング、イオンビームの併用
                 5．各種光学薄膜について

参加のおすすめ
　真空の存在は、紀元前4世紀頃にはギリシアの哲学者の間で論じられていたそうです。しかし、スパッタ現象の発見や、真空蒸着の試みが実際に行われたのは19世紀半ばでした。そして、1930年代に拡散ポンプが完成すると、まず真空蒸着が実用化され、光学反射防止膜に利用されました。その後、いろいろな成膜技術が実用化され発展しますが、現在でも、光学薄膜は真空蒸着が主要な成膜技術です。本講座では、真空を利用した薄膜作製技術や装置の基礎的な事項と、多層の積層膜を利用する光学薄膜について紹介します。

54名

一般（ 会員・非会員 ） 5,000円、学生 1,000円 （テキスト代・消費税込）
※テキストは講義で使用するPPTファイルを1ページ4スライドでモノクロ印刷したものです。

申込みは終了しました。

当日、会場（会議室E204）前の受付にてお支払いください。領収書を発行します。
※なるべくお釣りのないようご準備ください。

問合せ先：　公益社団法人日本表面真空学会
                  TEL 03-3812-0266　　FAX 03-3812-2897
                  E-mail: office@jvss.jp

「VACUUM2019 真空展」ホームページ： https://biz.nikkan.co.jp/eve/vacuum/