日本表面科学会関西支部　主催

協賛 　　日本化学会、日本物理学会、応用物理学会、日本分光学会、日本金属学会関西支部、（交渉中）　日本セラミックス協会、日本分析化学会、表面技術協会、日本材料学会、高分子学会、日本材料科学会、日本質量分析学会、電気化学会、軽金属学会、日本真空協会、触媒学会、化学工学会、日本鉄鋼協会、センシング技術応用研究会

日本表面科学会では、表面や界面の問題にこれから取り組もうとされている比較的初心者の方を対象に、毎年、表面科学基礎講座を東京と大阪で開催しており、今秋の大阪開催で既に第34回を数えます。一方、表面分析などの実務者やより進んだ表面分析を模索しておられる方を対象として、4年前から秋の基礎講座開催時（基礎講座の翌日）に、本実用表面分析セミナーを開催してきております。

今回も分析機器メーカーと分析センターの協力を得て、口頭発表とポスター展示を併設し、表面分析の応用面における情報交換の場を提供するために企画しました。「ナノ、バイオ、ＩＴ」をキーワードに、表面分析の解析技術の向上に役立つ最新の分析技術や、各種材料を分析する場合に特有のノウハウやヒントになる内容をたくさん盛り込んでいます。多数の皆様の参加をお持ちしております。

１．開催日時；２００２年１１月２２日（金）【表面科学基礎講座の翌日】

２．場所　　；独立行政法人産業技術総合研究所　関西センター（大阪府池田市）

　　　　　　　（旧大阪工業技術研究所）　融合棟多目的ホール

３．プログラム

9:30　ＴｏＦ−ＳＩＭＳを利用した最近の応用について　　　　　　　 （日立ハイテクノロジーズ）船岡武司

9:50　ＳＩＭＳ測定における１次イオン照射に伴う表面汚染の評価 　　（ＵＢＥ科学分析センター）図司和夫

10:10　ＳＩＭＳによるシャローＢ注入試料における極表面近傍領域の新しい評価法（ナノサイエンス）永山 進

　　　　（休憩）

10:40　高分解能ＲＢＳによる極薄ゲート絶縁膜の評価　　　　　　　　　 　　 （コベルコ科研）藤川和久

11:00　角度分解ＸＰＳによる薄膜解析〜最大エントロピー法〜　　　 　（ＶＧシステムズジャパン）坂本文孝

11:20　Ｘ線反射率法による薄膜材料の評価　　　　　　　　　　 　　 　　 　 　（理学電機）光永 徹

11:40 画像解析技術を用いたＴＥＭによる膜厚計測技術の向上　 　 （日本板硝子テクノリサーチ）森本 孝

　　　　（昼食）

13:00　走査型プローブ顕微鏡の高分子材料への応用　　　　　　　　　 　　　 （島津製作所）中島秀郎

13:20　表面凹凸の解析〜ＡＦＭとＳＥＭ〜　　　　　 　　 （カネカテクノリサーチ）今西正尚

13:40　マイクロＸＰＳの応用　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（日本電子）飯島善時

　　　　（休憩）　

14:10　半導体デバイス断面の２次元キャリア分布観察の現状　　 　　 （東レリサーチセンター）藤田高弥

14:30　半導体故障解析における表面分析の役割　　　　　 　 　　　 　（東芝ナノアナリシス）佐藤暢高

14:50　オージェ分析によるナノ領域へのアプローチ　　　　　　 （アルバック・ファイ）大岩 烈

　　　　（休憩）

15:20〜16:30　ポスターセッション

上記口頭発表に関連したポスター１3点及び下記１点の計１4点

「ナノテクノロジーにおけるカソードルミネッセンス」　　　　 （堀場ジョバンイボン）中川 健　　　　

４．参加費用

日本表面科学会員：2,000円、協賛学会員：3,000円、その他一般：4,000円、

学生：無料（但し、資料代1,000円）

５．申し込み方法

　１１月１５日（金）までにあらかじめ参加登録をして下さい。電子メール、ＦＡＸ、官製ハガキをご利用いただき、下記項目を記載の上、申し込み下さい。なお、当日参加も歓迎致しますが、資料準備の都合上なるべく事前にご連絡いただきますよう宜しくお願い致します。

　�@第５回実用表面分析セミナー参加費（申し込み区分を明記下さい）

　�A氏名

　�B勤務先・所属（または大学名・学科）

　�C住所・ＴＥＬ・ＦＡＸ・メールアドレス

６．申し込み先

　〒651-2271　神戸市西区高塚台１−５−５

（株）コベルコ科研　笹川　薫

　E-mail:sasakawak@kobelcokaken.co.jp

　FAX:078-990-3062, TEL:078-992-6043

７．会場案内

独立行政法人産業技術総合研究所　関西センター　融合棟多目的ホール　〒563-8577大阪府池田市緑丘1-8-31　TEL ０７２７−５１−９６０１

阪急梅田駅より宝塚線急行２０分、池田駅下車徒歩１０分